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應(yīng)用需求與挑戰(zhàn)
在掩模版檢測(cè)中，任何細(xì)微缺陷都可能在光刻過(guò)程中被成倍放大，影響整個(gè)芯片批次的質(zhì)量。相機(jī)不僅要具備極致的分辨率和精細(xì)的對(duì)比度還原能力，還需要適配深紫外甚至極紫外波段的光學(xué)成像，以滿足特殊檢測(cè)環(huán)境的需求。同時(shí)，掩模檢測(cè)要求高度穩(wěn)定和長(zhǎng)期一致的性能，確保檢測(cè)結(jié)果的可靠性和可重復(fù)性。
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典型相機(jī)推薦
Gemini 8KTDI
深紫外高速TDI-sCMOS相機(jī)
193 nm 位于 DUV（100–200 nm）深紫外波段，是光刻環(huán)節(jié)的核心光源（ArF 準(zhǔn)分子激光），在 20 nm 及更先進(jìn)工藝中發(fā)揮著關(guān)鍵作用。在檢測(cè)環(huán)節(jié)，193 nm 被廣泛用于掩膜版缺陷檢測(cè)與光刻膠圖形驗(yàn)證，可揭示亞微米甚至納米級(jí)缺陷，從而實(shí)現(xiàn)高精度工藝監(jiān)控。
Gemini 8KTDI在 193?nm 波段的響應(yīng)能力已通過(guò)相關(guān)實(shí)驗(yàn)室驗(yàn)證。憑借 18 年在高信噪比成像、高速數(shù)據(jù)傳輸以及特殊波長(zhǎng)極限探測(cè)技術(shù)的深厚積累，鑫圖成為國(guó)內(nèi)極少數(shù)能夠支持 193?nm 深紫外（DUV）高光子能量科研與檢測(cè)應(yīng)用的專業(yè)相機(jī)供應(yīng)商。
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